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产品详情

材质：Mo1

类型：平面靶材,旋转靶材

形状：管状，方形，圆形，长条形

纯度：99.95%，99.97%，99.98%

常规密度：10g/cm3～10.15 g/cm3

高密度：>10.15g/cm3

尺寸：按图纸加工，满足→精度要求。

产品特性: 高密度，高纯度，细晶粒，致密性好

应用领域：溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是物理气相沉积(PVD)主要方法∏之一,它用于在表面Ψ 沉积具有某种特殊功能的薄膜。溅射靶材的主要◤应用于平板显示镀膜、半↓导体镀膜，玻璃镀膜、太阳能电池镀膜、装饰镀膜等行业。

工艺流程：

平面靶材：钼粉-压制-烧结-轧制-深加工-表面处理-成品-检验-包装

小型旋转☉靶材：钼粉-压制-烧结-锻造-深加工-表面处理-成品-检验-包装

大型旋转靶材：钼粉-压制-烧结-深加工-表面处理-成品-检验-包装

HIP工艺生〖产靶材的优势：

--密度更高
--晶粒组织更细小均∩匀

--提高机械性能

--消除内部气☆孔

--提高切削加工表面质量

洛阳辰骏钨钼科技有限公司可生产供应以※下各种形状的高质量靶材：

钨靶，钼靶，钼铌合金靶材，铌靶，铬靶，钛靶，钽靶