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产品详情

材质：W1

类型：平面靶材，旋转靶材

形状：管状，方形，圆形，长条形

纯度：99.95%，99.97%

常规密度：19.0g/cm3～19.2g/cm3

高密度：>19.2g/cm3

尺寸：按图纸加工，满足精度要求

产品特性:高密度，高纯度，细晶粒，致密性好

应用领域：溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是物理气相沉积(PVD)主要方法之一,它用于在表面沉积具有某种特殊功能的薄膜。溅射靶材的主要应用于平板显示镀膜、半导体镀膜，玻璃镀膜、太阳能电池镀膜、装饰镀膜等行业。

工艺流程：

平面靶材：钨粉-压制-烧结-轧制-深加工-表面处理-成品-检验-包装

小型旋转→靶材：钨粉-压制-烧结-锻造-深加工-表面处理-成品-检验-包装

大型旋转※靶材：钨粉-压制-烧结-深加工-表面处理-成品-检验-包装

HIP工艺生产靶材的优势：

--密度更高
--晶粒组织更细小均匀

--提高机械性能

--消除内部气孔

--提高切削加工表面质量

洛阳辰骏钨钼科技有限公司可生产供应以下各种形状的高质量靶材：

钨靶，钼靶，钼【铌合金靶材，铌靶，铬靶，钛靶，钽靶